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4:30 PM - 6:00 PM JST(7:30 AM - 9:00 AM UTC)

[P84]Verification of Effects of Superimposed-oblique Ion Irradiation on Self-organized Nanostructuring in Ge Substrates

*Rei MIYATA¹, Naoto OISHI¹, Noriko NITTA² (1. Kochi University of Technology, 2. Kochi University of Technology)

Ge,ナノポーラス構造,点欠陥,イオンビーム角度重畳照射

特定の半導体材料にイオンビーム照射を行うと点欠陥の自己組織化及びスパッタリングによって表面にナノポーラス構造が形成される。重畳照射の違いによって試料表面に異なる構造が形成された。