[P99]Thermal stability of amorphous TM-Ge-Te selector thin films
*keisuke hamano1,2, eisuke takeuchi1, shogo hatayama2, yuta saito3, paul fons4(1. Keio Univ., 2. AIST, 3. Tohoku Univ., 4. Keio Univ.)
次世代の不揮発性メモリとして注目される相変化メモリに使われるセレクタに関して、遷移金属添加により材料の耐熱性向上を目指す。
