[P] P39~P46

2:00 PM - 3:30 PM JST(5:00 AM - 6:30 AM UTC)

[P42] Effect of Oxygen Flow Rate on Microstructure of TiO₂ Films Deposited by Glancing-angle Reactive Sputtering

*CHEN YUSOU¹, Inoue Yasushi², Takai Osamu³ (1. Chiba Inst. Technol, 2. Chiba Inst. Technol, 3. Kanto Gakuin Univ)

Keywords:

TiO₂薄膜,斜入射スパッタリング,微細構造,結晶性,酸素流量

成膜中の基板を加熱することで斜入射TiO₂薄膜の部分的な離散的柱状構造化の向上ができたが、基板温度が高いことで結晶の離散性が低かった。Ti原子のマイグレーションを制御するために酸素分圧をパラメータとした。