Presentation Information
[P7]SiC thin film growths grown by Pulse Jet CVD and Substrate Dependence of Surface Morphology
*Kaiyo YOSHIDOME1, Yoshito TAGUCHI1, Makoto ARITA2, Yoshifumi IKOMA2, Taizoh SADOH3 (1. Kyushu Univ. Eng（Master）, 2. Kyushu Univ. Eng, 3. Kyushu Univ. Eng. Sci)
Keywords:
CVD,Si,Ge,SiC,表面モフォロジー
ガスをパルスとして基板に照射するパルスジェットCVD法を用いてSi、Geなどの基板に対してSiC薄膜成長を試み、表面モフォロジーの基板依存性を調査した
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