[P] P269~P297

[P285] Influences of Plasma Power on PECVD Process for SiO:CH Thin-film Deposition

Naoyoshi Izumida¹, *Seiya Ishikawa¹, Yasushi Inoue¹, Osamu Takai² (1. Chiba Inst. Technol., 2. SSAME)

Keywords:

プラズマCVD法,有機機含有シリカ,プラズマ発光分光

プラズマCVD法による有機基含有シリカ薄膜形成過程において，プラズマ出力増加により，有機シリコン原料分子の解離が促進されるとともに，アモルファスカーボン的な結合状態で取り込まれる有機成分が増加した．