[P] P269~P297

[P285] PECVD法によるSiO:CH成膜プロセスに対するプラズマ出⼒の影響

泉田 尚芳¹、*石川 聖也¹、井上 泰志¹、高井 治² (1. 千葉工大工、2. 表面・超原子研)

キーワード：

プラズマCVD法、有機機含有シリカ、プラズマ発光分光

プラズマCVD法による有機基含有シリカ薄膜形成過程において，プラズマ出力増加により，有機シリコン原料分子の解離が促進されるとともに，アモルファスカーボン的な結合状態で取り込まれる有機成分が増加した．