[KS] K1 Industry-academia collaboration in our future: Next style of collaboration

2:10 PM - 2:50 PM JST(5:10 AM - 5:50 AM UTC)Keynote Lecture

[K1.5] [Keynote Lecture] Development of aerosol gas deposition method and its film formation applications

*Eiji Fuchita¹ (1. Fuchita Nanotechnology Ltd.)

Keywords:

エアロゾル化ガスデポジション,セラミックスの常温成膜,静電荷電,プラズマ,ナノ活性種の生成

1981年創造科学推進事業のプロジェクトで始まった日本発のナノテクノロジー。室温で粉体の帯電がもたらすセラミックス成膜技術。微粉から静電気誘導プラズマ中、ナノ活性種を生成し、微細ナノ構造膜を作る技術。