[KS] K1 我が国のこれからの産学連携：共同研究のあるべき姿を求めて

14:10 〜 14:50基調講演

[K1.5] [基調講演] エアロゾル化ガスデポジション法の装置開発とその成膜応用

*渕田 英嗣¹ (1. 渕田ナノ技研)

キーワード：

エアロゾル化ガスデポジション、セラミックスの常温成膜、静電荷電、プラズマ、ナノ活性種の生成

1981年創造科学推進事業のプロジェクトで始まった日本発のナノテクノロジー。室温で粉体の帯電がもたらすセラミックス成膜技術。微粉から静電気誘導プラズマ中、ナノ活性種を生成し、微細ナノ構造膜を作る技術。