Presentation Information

[83]Investigation of the formation conditions of GeTe2 as a metastable layered semiconductor material

*Yu Kato1, Shogo Hatayama2, Mihyeon Kim1, Yuta Saito1,2,3 (1. Tohoku Univ., 2. SFRC, AIST, 3. GXT, Tohoku Univ.)

Keywords:

準安定層状材料,ダイカルコゲナイド,半導体,結晶化

アモルファス薄膜を熱処理することで結晶化する準安定材料のGeTe2は層状構造およびp型半導体特性を有する。本研究では組成,膜厚,熱処理温度の影響を調査し、GeTe2の形成や分解に及ぼす因子の解明を行なった。

Comment

To browse or post comments, you must log in.Log in