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[S4.11]The electron irradiation - electronic excitation induced phase transition in SiOx/Ni/SiOx TEM specimen

*Daichi YAMAGUCHI1, Takeshi Nagase2, Akira Heya2, Koji Sumitomo2, Shouzou Inoue2, Michiru Yamashita3 (1. University of Hyogo, 2. University of Hyogo, 3. Hyogo Prefectural Institute of Technology)

Keywords:

TEM,シリサイド,電子励起,相転移,電子線照射

Metal/SiOx界面において、電子励起を介してシリサイドが形成する電子励起誘起相転移現象が確認されている。そこで、SiOx/Ni/SiOx試料に対し、TEMを利用して電子線照射を行うことで新たな相の出現を確認した。

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