講演情報
[S4.11]SiOx/Ni/SiOx試料における電子励起誘起相転移現象
*山口 大智1、永瀬 丈嗣2、部家 彰2、住友 弘二2、井上 尚三2、山下 満3 (1. 兵庫県立大(院生)、2. 兵庫県立大、3. 兵庫県立工業技術センター)
キーワード：
TEM、シリサイド、電子励起、相転移、電子線照射
Metal/SiOx界面において、電子励起を介してシリサイドが形成する電子励起誘起相転移現象が確認されている。そこで、SiOx/Ni/SiOx試料に対し、TEMを利用して電子線照射を行うことで新たな相の出現を確認した。