[P] P177~P201 Microstructures

[P197] Electron Diffraction Study of Electron Beam–Induced Crystalline Phases in Amorphous HfO2

○Syugo Kido¹, Miu Kinoshita², Yoichi Horibe¹, Nakamura Ryusuke², Manabu Ishimaru¹ (1. kyushu institute of technology, 2. The University of Shiga Prefecture)

Keywords:

HfO2,electron beam irradiation,crystallization,Transmission Electron Microscope,ferroelectric phase

本研究では、FeFET用ゲート絶縁膜における強誘電相の形成を目的に、アモルファスHfO₂薄膜への電子線照射を行い、その結晶化挙動を調べた。その結果、強誘電性を示すPca2₁(o)相が高頻度で観察され、電子線照射が強誘電相形成に有効である可能性が示された。