[P] P177~P201　組織

[P197] 電子線照射によるアモルファスHfO₂の結晶化と生成相

○城戸 宗悟¹、木下 心詩²、堀部 陽一¹、仲村 龍介²、石丸 学¹ (1. 九州工業大学、2. 滋賀県立大学)

キーワード：

HfO2、電子線照射、結晶化、透過電子顕微鏡、強誘電相

本研究では、FeFET用ゲート絶縁膜における強誘電相の形成を目的に、アモルファスHfO₂薄膜への電子線照射を行い、その結晶化挙動を調べた。その結果、強誘電性を示すPca2₁(o)相が高頻度で観察され、電子線照射が強誘電相形成に有効である可能性が示された。