[P] 第5分野　材料化学　P24～P30

[P50] Effect of Substrate Pretreatment on Microstructure Formation of InN Thin Films Grown by Glancing-angle Evaporation

○Taisei Ushiki¹, Yasushi Inoue¹, Osamu Takai² (1. Chiba Inst. of Technol., 2. SSAME)

Keywords:

InN Thin Films,Glancing Angle Deposition (GLAD),Functional Thin Films

本研究では，GLAD法によるInN薄膜成膜において，成膜前の基板プラズマ処理が微細構造形成に及ぼす影響を調査した．その結果，プラズマ処理により柱状晶間の空隙が増大する傾向が認められ，基板表面粗さが初期核生成および成長挙動に影響を与えることが示唆された．