[P] 第5分野　材料化学　P24～P30

[P51] Crystal orientation control of Ru thin films on SUS316L using sputtering method

○Hayato Yatagawa¹, Hibiki Horikoshi¹, Takatoshi Nagano¹ (1. Ibaraki University)

Keywords:

Thin film,Crystal orientation,Sputtering method,Ruthenium,SS316L

Ruには基板の結晶方位に関わらず(0001)に優先して配向する性質がある。しかし、多結晶合金基板上で同様の傾向があるかについては未解明である。そのため、オーステナイト系ステンレスであるSUS316L上にRuをスパッタし、XRDによる結晶方位測定を行うことで、優先配向が可能であるか調査した。