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[PB2055](fsLA-)spICP-MSによるSiウェハ表面の粒子状汚染物質評価技術の基礎検討

*山下 真弘1、島村 佳典2、奥田 勇気3 (1. 京セラ(株)、2. アジレント・テクノロジー(株)、3. 西進商事(株))

Keywords:

spICP-MS,fsLA-spICP-MS,LA-ICP-MS,nanoparticle