日本分析化学会第71年会
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[PB2055]
(fsLA-)spICP-MSによるSiウェハ表面の粒子状汚染物質評価技術の基礎検討
*山下 真弘
1
、島村 佳典
2
、奥田 勇気
3
(1. 京セラ(株)、2. アジレント・テクノロジー(株)、3. 西進商事(株))
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Keywords:
spICP-MS,fsLA-spICP-MS,LA-ICP-MS,nanoparticle
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