一般ポスター-1B

[PB2055] (fsLA-)spICP-MSによるSiウェハ表面の粒子状汚染物質評価技術の基礎検討

*山下 真弘¹、島村 佳典²、奥田 勇気³ (1. 京セラ（株）、2. アジレント・テクノロジー（株）、3. 西進商事（株）)

キーワード：

spICP-MS、fsLA-spICP-MS、LA-ICP-MS、nanoparticle