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[1B1-109]陽電子プローブマイクロアナライザーによる金属破断面直下の局所欠陥分析

○藤浪 眞紀1、阿部 帆花1、満汐 孝治2、堀 利彦2、大島 永康2 (1. 千葉大学、2. 産業技術総合研究所)

Keywords:

陽電子消滅,破断面分析,原子空孔,ニッケル,水素脆化