X線・電子分光分析　３

16:15 〜 16:30

[1B1-109] 陽電子プローブマイクロアナライザーによる金属破断面直下の局所欠陥分析

○藤浪 眞紀¹、阿部 帆花¹、満汐 孝治²、堀 利彦²、大島 永康² (1. 千葉大学、2. 産業技術総合研究所)

キーワード：

陽電子消滅、破断面分析、原子空孔、ニッケル、水素脆化