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[I1107C]偏光全反射蛍光XAFS法による表面反応プロセスのその場/オペランド計測

○Satoru Takakusagi1, Lu Bang1 (1. 北大触媒研)

Keywords:

偏光全反射蛍光XAFS法,その場/オペランド計測,触媒反応,プラズマ表面反応