Presentation Information
[20a-P03-11]Development of REBCO patterned multi-filamentary thin film using photolithography method
〇MATSUMOTO AKIYOSHI1, Shuuichi OOI1, Minoru TACHIKI1, Ryo TERANISHI2, Satoshi HATA2, Zimeng GUO2, Hongye GAO2, Masayoshi INOUE3 (1.NIMS, 2.Kyushu Univ., 3.FIT)
Keywords:
Superconductor,Multifilamentary
REBCO超伝導体は、低温・高磁場下での超伝導磁石や電力機器への応用が期待されている。 現在、多くの企業が市場に供給している超伝導線材はテープ形状である。このようなテープ形状で作製された線材においては、遮蔽電流や交流損失の低減が実用化に向けた重要な課題の一つとなってきている。我々はフォトリソグラフィー技術を使用して基板上に作製された、隆起したストライプ構造を持つパターン化されたマルチフィラメント薄膜を提案してきた。Zr、Nb、Al2O3 などのさまざまな材料を使用した STO/ストライプ上にYBCOを成膜させた。組織観察等の結果から、STO/Zr ストライプ上には異なる方位を持ったYBCO 結晶が形成されているが、STO/Nbストライプ上には NbBaOなどの不純物相が形成されていることが分かった。ストライプの材質を変えることによって種々の組織を有した構造体を作製できることを示した。