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[20p-C601-2]Feature Extraction of Machine Learning for Prediction of MOCVD-grown GaN surface

〇Tsutomu Sonoda1, Tokio Takahashi1, Yosuke Tsunooka2, Masaki Takaishi3, Shota Seki2,3, Kentaro Kutsukake4, Toshihide Ide1, Mitsuaki Shimizu1, Toru Ujihara2 (1.NU-AIST GaN-OIL, 2.Grad. School of Eng. Nagoya Univ., 3.AIxtal, 4.AIP RIKEN)

Keywords:

MOCVD-grown GaN

実験をコンピュータ上で再現し、実験結果を予測するデジタルツインを用いた材料製造は、材料開発コストの削減手法として期待されている。機械学習を用いたデジタルツインと整合可能になれば、機械学習上で新たな成長条件を導き出し、結晶成長実験及び実験施設に至るまでのフィードバックが期待できる。本研究では、GaN半導体の気相成長(MOCVD)のデジタルツインに向けて、結晶成長実験とシミュレーションの整合性を高めて成長に大きく寄与する成長条件を抽出し、それを機械学習へ向けた特徴量として扱うためのパラメータ化を実施したので報告する。