[16a-C32-1~10] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

9:30 AM - 9:45 AM JST(12:30 AM - 12:45 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[16a-C32-3] Preparation and evaluation of amorphous alumina freestanding thin films deposited by Pulse laser deposition (PLD)

〇(M2)Sohei Ogasawara¹, Melbert Jeem², Kazuro Kizaki¹, Katayama Tsukasa³, Matsuo Yasutaka³, Ono Madoka¹ (1.Tohoku Univ., 2.Hokkaido Univ. Dep. Engneering., 3.Hokkaido Univ. RIES)

Keywords:

alumina,amorphous

アルミナは広いバンドギャップや優れた耐摩耗性から各種デバイスの保護膜や絶縁膜として広く利用されている。これを薄膜にするとアモルファスになり、高い延性を持つ。この薄膜の延性被覆材としての応用範囲を広げるために本研究では、水溶性のSr3Al2O6犠牲層を利用したリフトオフ・転写法によって、剥離可能なアモルファスアルミナ薄膜をパルスレーザー堆積法（Pulsed Laser Deposition, PLD）によって作製し、その構造と機械特性を調べた。