[16a-C32-1~10] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

9:30 〜 9:45奨励賞エントリー

[16a-C32-3] パルスレーザー堆積法(PLD)による アモルファスアルミナ薄膜の作製と評価

〇(M2)小笠原 颯平¹、Melbert Jeem²、木崎 和郎¹、片山 司³、松尾 保孝³、小野 円佳¹ (1.東北大工、2.北大工、3.北大電子研)

キーワード：

アルミナ、アモルファス

アルミナは広いバンドギャップや優れた耐摩耗性から各種デバイスの保護膜や絶縁膜として広く利用されている。これを薄膜にするとアモルファスになり、高い延性を持つ。この薄膜の延性被覆材としての応用範囲を広げるために本研究では、水溶性のSr3Al2O6犠牲層を利用したリフトオフ・転写法によって、剥離可能なアモルファスアルミナ薄膜をパルスレーザー堆積法（Pulsed Laser Deposition, PLD）によって作製し、その構造と機械特性を調べた。