Presentation Information

[16p-C31-3]Epitaxial heterojunction of alkali metal borohydride compounds

〇Hibiki Murakami1, Kenichi Kaminaga1, Shingo Maruyama1, Yuji Matsumoto1 (1.Touhoku Univ.)

Keywords:

Borohydride,CW-IR-laser deposition

従来の水素化ホウ素化合物の薄膜作製において、CsBH4などを用いた単層膜の研究が進められてきた。一方で、複数の水素化ホウ素材料を用いたエピタキシャルヘテロ接合膜の作製例は報告例がない。本研究では、KBH4膜をテンプレート層として使用し、CsBH4/KBH4のエピタキシャルヘテロ接合膜を作製し、その結晶性と表面形態を評価した。また、ヘテロ膜中にKBH4,CsBH4の成長メカニズムについて考察した。

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