[16p-C31-1~18] 6.4 薄膜新材料

13:45 〜 14:00奨励賞エントリー

[16p-C31-3] アルカリ金属水素化ホウ素化合物のエピタキシャルヘテロ接合

〇村上 響¹、神永 健一¹、丸山 伸伍¹、松本 祐司¹ (1.東北大工)

キーワード：

水素化ホウ素化物、赤外レーザ蒸着

従来の水素化ホウ素化合物の薄膜作製において、CsBH4などを用いた単層膜の研究が進められてきた。一方で、複数の水素化ホウ素材料を用いたエピタキシャルヘテロ接合膜の作製例は報告例がない。本研究では、KBH4膜をテンプレート層として使用し、CsBH4/KBH4のエピタキシャルヘテロ接合膜を作製し、その結晶性と表面形態を評価した。また、ヘテロ膜中にKBH4,CsBH4の成長メカニズムについて考察した。