[16p-C31-1~18] 6.4 Thin films and New materials

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[16p-C31-5] Evaluation of hydrogen adsorption in Pd/Ni thin-film heterostructures by thermal desorption spectroscopy

〇Kenzaburo Tsutsui¹, Hiroki Ono¹, Takahiro Ozawa³, Kohei Yamamoto⁴, Osamu Ishiyama⁴, Markus Wilde³, Toshihiko Yokoyama⁴, Katsuyuki Fukutani³, Masaki Mizuguchi^1,2, Toshio Miyamachi^1,2 (1.Grad. Sch. Eng., Nagoya Univ., 2.IMaSS, Nagoya Univ., 3.IIS, the University of Tokyo, 4.IMS)

Keywords:

hydrogen adsorption,thin film,thermal desorption spectroscopy

Cu(001)基板に積層したPd/Ni薄膜ヘテロ構造について、XAS/XMCD測定から電子・磁気特性を評価し、TDS測定によって、その水素吸蔵特性を評価することを試みた。XAS/XMCD測定より、Ni薄膜は強い面内磁化を示し、Pd薄膜はNi薄膜との磁気近接効果によって磁化したことを確認した。TDS測定の結果、水素曝露圧力の増大に伴い、吸蔵水素に由来する熱脱離ピークが段階的に成長することが分かった。