[16p-C31-1~18] 6.4 薄膜新材料

14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

[16p-C31-5] 昇温脱離ガス分析法を用いた Pd/Ni 薄膜ヘテロ構造の水素吸蔵特性評価

〇筒井 健三郎¹、小野 広喜¹、小澤 孝拓³、山本 航平⁴、石山 修⁴、Wilde Markus³、横山 利彦⁴、福谷 克之³、水口 将輝^1,2、宮町 俊生^1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.東大生産研、4.分子研)

キーワード：

水素吸蔵、薄膜、昇温脱離ガス分析法

Cu(001)基板に積層したPd/Ni薄膜ヘテロ構造について、XAS/XMCD測定から電子・磁気特性を評価し、TDS測定によって、その水素吸蔵特性を評価することを試みた。XAS/XMCD測定より、Ni薄膜は強い面内磁化を示し、Pd薄膜はNi薄膜との磁気近接効果によって磁化したことを確認した。TDS測定の結果、水素曝露圧力の増大に伴い、吸蔵水素に由来する熱脱離ピークが段階的に成長することが分かった。