[16p-C31-1~18] 6.4 Thin films and New materials

3:00 PM - 3:15 PM JST(6:00 AM - 6:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[16p-C31-8] Fabrication of new Eu-As binary compound films by molecular beam epitaxy

〇(M1)Tadashi Yoneda¹, Shinichi Nishihaya¹, Hiroyuki Ujiie¹, Ayano Nakamura¹, Yuto Watanabe¹, Markus Kriener², Masaki Uchida¹ (1.Tokyo Tech, 2.RIKEN CEMS)

Keywords:

molecular beam epitaxy,new material thin film

Eu-As二元系化合物は、Zintl相に基づく多様な結晶構造が報告されているが、近年分子線エピタキシー(MBE)法により合成されたEuAsを除いてその物性はほとんど未解明である。そこで本研究では、MBE法を用いてEu-As二元系化合物の成膜条件を探索することで、これまでに報告されていないEu-As二元系新物質薄膜の作製に成功した。得られた薄膜の結晶構造を調べることにより、新物質薄膜の面直格子定数、組成比を明らかにした。