[16p-P02-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[16p-P02-4] Target Voltage Dependence of Discharge Characteristics in High-Power Impulse Magnetron Sputtering Plasmas

〇Motoki Abe¹, Keita Kakinuma¹, Takayuki Ohta², Akinori Oda¹ (1.Chiba Inst. Technol., 2.Meijo Univ)

Keywords:

Plasma,High-Power Impulse Magnetron Sputtering

大電力パルスマグネトロンスパッタリングは瞬間的に大電力を供給することで, 従来の手法に比べ金属粒子のイオン化率が高くなるため, 成膜される膜の硬度や密着性が向上することが報告されている。しかし, ガスの希薄化をはじめとしたHiPIMS内部の物理機構と成膜条件との関係は未解明である。本研究では, 数値解析を用いてHiPIMS放電特性に及ぼすターゲット電圧依存性を解析したため, その結果を報告する。