Presentation Information
[17a-P01-41]Chemical etching of silicon with photochemically reduced graphene oxide
〇(M1)Yuki Miura1, Toru Utsunomiya1, Takashi Ichii1 (1.Kyoto Univ.)
Keywords:
Graphene Oxide,Etching
シリコン表面微細加工技術として貴金属や炭素材料を触媒として用いたアシストエッチングが注目されている．当研究室では二次元材料である酸化グラフェンを用いたアシストシリコンエッチングを報告してきた．本研究では酸化グラフェンとその光還元体の２種類の炭素材料についてシリコン基板上に担持した状態でエッチングを行い両者の挙動を比較した．
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