[17p-C43-1~17] 1.6 Ultrasonics

4:15 PM - 4:30 PM JST(7:15 AM - 7:30 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[17p-C43-13] Inactive layer on One-axis oriented (K,Na)NbO₃ Films Deposited by RF Sputtering

〇(M2)Yuta Nakayama¹, Masashi Suzuki¹, Shoji Kakio¹ (1.Univ. of Yamanashi)

Keywords:

Potassium Sodium Niobate,Bulk Acoustic Wave

高周波(RF)スパッタリングにより成膜された(K,Na)NbO₃(KNN)膜は，鉛系圧電膜に匹敵する優れた圧電性を示すことから，その応用が研究されている．本報では，圧電不活性層を考慮したMasonの等価回路モデルを用いて，RFスパッタリングによりZnO密着層上に成膜された一軸配向KNN膜中における不活性層について検討した．その結果，同KNN膜には膜厚の10~20 %程度の不活性層が形成されている可能性があることを明らかにした．