[17p-C43-1~17] 1.6 超音波

16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[17p-C43-13] RFスパッタリングにより成膜された一軸配向(K,Na)NbO₃膜の不活性層に関する検討

〇(M2)中山 雄太¹、鈴木 雅視¹、垣尾 省司¹ (1.山梨大)

キーワード：

ニオブ酸カリウムナトリウム、バルク弾性波

高周波(RF)スパッタリングにより成膜された(K,Na)NbO₃(KNN)膜は，鉛系圧電膜に匹敵する優れた圧電性を示すことから，その応用が研究されている．本報では，圧電不活性層を考慮したMasonの等価回路モデルを用いて，RFスパッタリングによりZnO密着層上に成膜された一軸配向KNN膜中における不活性層について検討した．その結果，同KNN膜には膜厚の10~20 %程度の不活性層が形成されている可能性があることを明らかにした．