[17p-D61-1~14] 6.3 Oxide electronics

4:45 PM - 5:00 PM JST(7:45 AM - 8:00 AM UTC)

[17p-D61-13] Modulation of phase transition temperature of VO₂ films
by controlling the surface roughness of the substrate

〇Hiroki Miyashita¹, Sharad Sunil Mane², Azusa Hattori², Hironori Fujisawa¹, Seiji Nakashima¹, Ai Osaka^1,2 (1.Univ. of Hyogo, 2.SANKEN, Osaka Univ.)

Keywords:

vanadium dioxide,surface roughness of the substrate.

Si基板に任意の表面粗さを付与することで、VO2薄膜の膜内歪みを変調し、相転移温度の変化を評価した。 基板表面粗さが増加すると相転移温度は低下する傾向を示した。このことからVO₂の相転移温度は基板表面状態を制御することで変化させることができると明らかにした。