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[17p-P03-14]Fabrication and evaluation of niobium thin films on R-plane sapphire substrates

〇(D)Tomohiro Hirama1, Yasushi Ishiguro1, Takashi Tachiki1 (1.NDA)
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Keywords:

sapphire substrates,niobium thin films

テラヘルツ帯で動作する高出力磁束フロー発振器 (FFO) を実現するために、FFOや高周波回路を構成するNb薄膜の特性向上を目指している。本研究では、800 ℃に加熱したR面サファイア基板上のNb薄膜の結晶成長の詳細を探るために同薄膜を作製し、結晶性および電気特性を評価した。

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