[18p-D62-1~17] CS.1 Code-sharing Session of 2.3 & 7.4

2:00 PM - 2:15 PM JST(5:00 AM - 5:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[18p-D62-3] Dry Etching of Cu films by neutral gas cluster beam

〇(M1)Keisuke Ikeda¹, Hideyuki Tanaka¹, Masaya Takeuchi¹, Noriaki Toyoda¹ (1.University of Hyogo)

Keywords:

neutral cluster beam,etching,surface reaction

本研究では、ALEで通常使用されるプラズマの代わりに中性ガスクラスタービーム(GCB)を用いたALEを検討している。本手法では高電圧や多数の真空装置が不要なため、低コストかつ高スループットが期待される。これまで、酸素GCBによる金属表面の酸化と溶液を用いた酸化層除去を繰り返すことによりALEが可能なことを示してきたが、本研究では、除去過程も気相プロセスとしたドライALEを検討した。