講演情報
[18p-D62-3]中性ガスクラスタービームを用いたCu膜のドライエッチング
〇(M1)池田 圭佑1、田中 秀幸1、竹内 雅耶1、豊田 紀章1 (1.兵庫県立大工)
キーワード:
中性ガスクラスタービーム、エッチング、表面反応
本研究では、ALEで通常使用されるプラズマの代わりに中性ガスクラスタービーム(GCB)を用いたALEを検討している。本手法では高電圧や多数の真空装置が不要なため、低コストかつ高スループットが期待される。これまで、酸素GCBによる金属表面の酸化と溶液を用いた酸化層除去を繰り返すことによりALEが可能なことを示してきたが、本研究では、除去過程も気相プロセスとしたドライALEを検討した。
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