[18p-D62-1~17] CS.1 Code-sharing Session of 2.3 & 7.4

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)

[18p-D62-4] Stress control of ultrathin SiNx membrane by GCIB irradiation for PEEM measurement liquid cell

〇Masaya Takeuchi¹, Arisa Toyota¹, Noriaki Toyoda¹ (1.Univ. of Hyogo)

Keywords:

Gas cluster ion beam,Silicon nitride

X-ray PEEMを用いて液体を測定するための液体セルには光電子透過窓（SiNxメンブレン）が使われるが、その膜厚は光電子の平均自由行程の制限より数nmである必要がある。SiNxメンブレンはその作製過程で応力がかかりその形状は湾曲する。このことはPEEMイメージの歪曲を引き起こす。本研究では、低損傷照射効果を示すガスクラスターイオンビーム（GCIB）を用いたSiNxメンブレンの応力制御を検討する。