[19a-B3-1~9] 6.2 Carbon-based thin films

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[19a-B3-8] Stress of Diamond-like Carbon Films Synthesized by Photoemission-assisted Plasma

〇(B)Tsubasa Demura¹, Akito Fukuda¹, Shinjiro Ono², Manato Eri², Kazunori Koga², Susumu Takabayashi¹ (1.NIT, Ariake College, 2.Kyushu Univ.)

Keywords:

diamond-like carbon (DLC),photoemission-assisted plasma,stress

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)は、sp²炭素、sp³炭素、および水素で構成されるアモルファス材料である。DLCはコーティング膜として幅広く応用されている。コーティング用途における開発課題の一つに、DLC膜が基材にもたらす応力がある。応力は、膜の基材との密着性や剥離などに対して影響をもたらすため、その制御が望まれている。我々はこれまで、独自の光電子制御プラズマCVD (PA-PECVD)法を用いてDLC膜を成膜してきた。今回我々は、PA-PECVDの放電形態を光電子制御タウンゼント放電(PATD)から同グロー(PAGD)へと段階的に変化させていくことで、放電形態の膜応力への影響を調べた。