[19a-P01-1~5] 3.2 Information photonics and image engineering

[19a-P01-4] Patterning for High Étendue Surface-relief Binary Computer-generated Hologram

〇Ryo Higashida¹, Masato Miura¹, Teruyoshi Nobukawa¹, Yuta Yamaguchi¹, Ken-ichi Aoshima¹, Nobuhiko Funabashi¹, Masahiro Yamaguchi² (1.NHK STRL, 2.Tokyo Tech)

Keywords:

holography,diffractive optical element

高エテンデューな表面レリーフ型バイナリー計算機合成ホログラム(CGH)を、反射型と透過型の各基板表面へ、エンボス加工によらず直接形成した。はじめに、基板に反射防止膜と高解像度レジストを塗布し、レーザー描画装置でCGHを描画した。その後、反応性イオンエッチング装置で基板表面をエッチングした。60 mm角サイズ、視域角53°の高エテンデューなCGHを高精度に基板へ形成し、高い光利用効率でCGHの光学再生を実現した。