Presentation Information
[19a-P01-4]Patterning for High Étendue Surface-relief Binary Computer-generated Hologram
〇Ryo Higashida1, Masato Miura1, Teruyoshi Nobukawa1, Yuta Yamaguchi1, Ken-ichi Aoshima1, Nobuhiko Funabashi1, Masahiro Yamaguchi2 (1.NHK STRL, 2.Tokyo Tech)
Keywords:
holography,diffractive optical element
高エテンデューな表面レリーフ型バイナリー計算機合成ホログラム(CGH)を、反射型と透過型の各基板表面へ、エンボス加工によらず直接形成した。はじめに、基板に反射防止膜と高解像度レジストを塗布し、レーザー描画装置でCGHを描画した。その後、反応性イオンエッチング装置で基板表面をエッチングした。60 mm角サイズ、視域角53°の高エテンデューなCGHを高精度に基板へ形成し、高い光利用効率でCGHの光学再生を実現した。
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