[19a-P01-1~5] 3.2 情報フォトニクス・画像工学

[19a-P01-4] 高エテンデュー表面レリーフ型バイナリー計算機合成ホログムの形成

〇東田 諒¹、三浦 雅人¹、信川 輝吉¹、山口 祐太¹、青島 賢一¹、船橋 信彦¹、山口 雅浩² (1.NHK技研、2.東京工業大)

キーワード：

ホログラフィー、回折光学素子

高エテンデューな表面レリーフ型バイナリー計算機合成ホログラム(CGH)を、反射型と透過型の各基板表面へ、エンボス加工によらず直接形成した。はじめに、基板に反射防止膜と高解像度レジストを塗布し、レーザー描画装置でCGHを描画した。その後、反応性イオンエッチング装置で基板表面をエッチングした。60 mm角サイズ、視域角53°の高エテンデューなCGHを高精度に基板へ形成し、高い光利用効率でCGHの光学再生を実現した。