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[19a-P05-1]MBE growth of 3 μm thick InGaSb/AlInGaSb THz-QCL structures

〇Hiroaki Yasuda1, Norihiko Sekine1, Iwao Hosako1 (1.NICT)
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Keywords:

QCL,InGaSb

GaSb基板上に厚さ3 μm のInGaSb/AlInGaSb テラヘルツ量子カスケードレーザの活性領域を分子線エピタキシー装置で成長した。QCL活性領域の貫通転位密度は9.7 × 106 cm− 2であった。

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