Presentation Information
[19p-P07-2]Ultrafast HVPE growth of GaInP solar cells exceeding 100 μm/h
〇(M1)Keigo Kondo1,2, Ryuji Oshima2, Yasushi Syoji2, Kikuo Makita2, Yudai Shimizu3, Akinori Ubukata3, Hiroki Tokunaga3, Takeyoshi Sugaya2, Yoshinobu Okano1 (1.TCU, 2.AIST, 3.TNSC)
Keywords:
Solar cells,III-V compound semiconductors,Hydride Vapor Phase Epitaxy
HVPE法はIII-V族太陽電池の新たな低コスト製造方法として期待されている。GaInPトップセルの高速化を目的として、p-GaInPベース層の成長速度を36 μm/hから121 μm/hまで変化させたGaInP単接合太陽電池を作製し、評価した。全てのセルで約9.5%の変換効率、0.83以上のFFが得られ、GaInPセルとして最も高速な121 μm/hの高品質なセル動作に成功した。一方で、VOCは36 μm/hの1.40 Vから121 μm/hでは1.34 Vと若干低下したが、これはキャリア濃度が低減したことが原因と考えられる。
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