[19p-P10-1~6] 16 Amorphous and Microcrystalline Materials (Poster)

[19p-P10-5] Influence of passivation films grown by nitric acid oxidation on heterojunction silicon solar cells using molybdenum oxide

Akira Mitsuhashi¹, Tomoya Suzuki¹, 〇Ryosuke Watanabe², Yoji Saito¹ (1.Seikei Univ., 2.Hirosaki Univ.)

Keywords:

heterojunction silicon solar cells,passivation,molybdenum oxide

遷移金属酸化物を用いたヘテロ接合シリコン太陽電池の研究が提案されている。中でもMoO₃の仕事関数は6.6eVと高く、拡散電位の増加が期待される。一方、性能向上には界面のパッシベーションが重要と考えられる。本研究ではc-Si上に硝酸酸化膜を形成し、そのパッシベーション効果とヘテロ太陽電池の評価を行った。