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[20p-D61-7]Ferromagntic manganese silicide nanoparticles formed by ion implantation in silicon

〇Rento Ohsugi1, Makoto Kawano1, Yuuki Wakabayashi1, Yoshiharu Krockenberger1, Hisashi Sumikura1, Jinichirou Noborisaka1, Katsuhiko Nishiguchi1 (1.NTTBRL)
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Keywords:

Silicide,Nanoparticle,Magnetism

シリコン(Si)中磁性ナノ粒子のデバイス応用を目指し、イオン注入という既存のSiトランジスタ作製技術によるマンガン(Mn)シリサイド磁性ナノ粒子の形成とその特性制御法を調べた。具体的には、Si基板にMnを注入する際のイオン注入エネルギーを制御することでMnシリサイド粒径と、それに関連する磁性が変化することがわかった。この発見はSiデバイスと親和性のある磁性ナノ粒子デバイスの開発につながる。

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