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[22a-P02-2]Photoelectrochemical characterization of g-C3N4 films prepared by thermal CVD

〇Uo Umezawa1, Sho Yoneyama1, Ryota Uchida1, Ryosuke Ikkatai1, Kosei Ito1, Kei Noda1 (1.Keio Univ.)

Keywords:

photocatalyst,photoelectrode,carbon nitride

我々は、水分解に適し た電位と可視光応答性を有し、かつ合成が容易 で無毒な非金属半導体であるグラファイト状 窒化炭素 (g-C3N4) に注目し、菅状炉の熱 CVD 法を用いた g-C3N4膜の作製とその光触媒 /光電極応用に取り組んでいる。本講演では、 熱 CVD 法によって ITO 膜付きガラス基板上に 作製した g-C3N4 膜に対して実施した光電気化 学特性の評価結果について報告する。