Presentation Information
[23a-P08-12]Development of linear ion source for large area processing
〇Akio Hagashi1, Takumi Yuze1, Toshihiro Terasawa1, Yasuhiro Morikawa1 (1.ULVAC)
Keywords:
ion source,ion etching
大型パネル基板の表面処理にイオン源を用いる場合、基板を一定速度で通過させながらイオンを照射することで高いスループットが得られますが、均一で変動が少ないエッチングが求められます。本研究では大面積処理用リニアイオン源におけるエッチングレートの向上と、エッチングレートの変動要因について調査しました。ビーム電流分布や電流変動のデータを合わせて紹介します。