[7p-P06-1~12] 3.6 Laser processing

[7p-P06-6] Formation of Hydrophobic Silicone Nanofilms Using ArF Excimer Laser

〇(D)Yoshimi Shibuta¹, Masayuki Okoshi¹ (1.NDA)

Keywords:

ArF excimer laser,Silicone nanofilm,Hydrophobic property

これまでわれわれは、波長193 nmのArFエキシマレーザーを用い、シリコーンゴムの主鎖構造（Si-O-Si結合）を光開裂し、低分子量化による体積膨張により、ミクロンサイズの周期的な微細隆起構造を光化学的に形成できることを示してきた。今回は、前記手法を基に、シリコーンゴムの光開裂により生成する低分子量シリコーンを大気中で光脱離させ、対向基板上にナノ膜として形成する新たな光化学的プロセスを実証するに至ったので報告する。