Presentation Information
[10a-A31-4]Fabrication of High Tc-Y123 Films via a Low Oxygen Concentration KOH Solution with N2 Gas Bubbling
〇Shuhei Funaki1, Yasuji Yamada2, Haruki Shigenobu2 (1.Aichi Inst. of Technol., 2.Shimane Univ.)
Keywords:
REBCO,KOH flux method,Liquid Phase Epitaxy
これまで我々は，還元雰囲気下でKOHフラックス法を用いることで，Y123エピタキシャル膜を常圧・低温下で成膜できることを明らかにした．本研究では，雰囲気制御を伴わない大気中プロセスで高TcなY123膜を作製することを目的として，原料種の変更とN2ガスバブリングを行ったKOHフラックス法によってY123を合成し，600ºCでTc=90 Kの膜を作製できることを明らかにした．