講演情報
[10a-A31-4]N2ガスバブリングによる低酸素濃度KOH溶液からの高Tc-Y123膜の作製
〇舩木 修平1、山田 容士2、重信 明希2 (1.愛工大工、2.島根大自然)
キーワード：
希土類系銅酸化物高温超伝導体、KOHフラックス法、液相成長法
これまで我々は，還元雰囲気下でKOHフラックス法を用いることで，Y123エピタキシャル膜を常圧・低温下で成膜できることを明らかにした．本研究では，雰囲気制御を伴わない大気中プロセスで高TcなY123膜を作製することを目的として，原料種の変更とN2ガスバブリングを行ったKOHフラックス法によってY123を合成し，600ºCでTc=90 Kの膜を作製できることを明らかにした．